23948sdkhjf

Original eller plagiat?

Tekniska museets nya utställning Likt/unikt lyfter fram betydelsen av patentskydd, varumärkesskydd, mönsterskydd.

Utställningen vill uppmärksamma de olika former av skydd som finns att tillgå och problematiken som omger dem. Att låta sig inspireras för att utveckla en ny produkt är en sak, men att kopiera och stjäla andras idéer är en annan. Det kan vara svårt att dra gränsen för tillåten inspiration och otillåtet plagiat. Då är det vikigt att skydda sina idéer för att skilja original från kopior. Utställningen har kommit till på gemensamt initiativ av Svenska Föreningen för Industriellt Rättsskydd och Tekniska museet i Stockholm. Utställningen Likt/unikt öppnar för allmänheten 26 augusti och håller på till och med 2011.

Kommentera en artikel
Utvalda artiklar

Nyhetsbrev

Sänd till en kollega

0.063